High rate deposition of tin-doped indium oxide films by reactive magnetron

(4.5/5) - 380 ratings
Authors: Ohno S., Kawaguchi Y., Miyamura A.etc.
Publisher: Unknown
Pages: Unknown
Language: english
Year: Unknown
ISBN 10: Unknown
ISBN 13: Unknown
Series: Unknown
Edition: Unknown
6,780 people have downloaded this book for free

Synopsis

Приведены результаты исследования применения метода оптической эмиссионной спектроскопии плазмы магнетронного разряда для оптимизации процесса магнетронного реактивного напыления оксидов индия-олова